光刻机内部有没有芯片？那么是先有光刻机还是先有芯片？
先说结论，从实际结果看，先有芯片再有光刻机，光刻机是由计算机控制的，计算机内有芯片，要运行光刻机必须有芯片，所以芯片比光刻机先有。
什么是EUV光刻机光刻系统使用紫外线在硅薄片上形成数十亿个微小结构。
这些结构共同构成一个集成电路或芯片。
芯片制造商可以在芯片上填充的结构越多，它的速度和功能就越强大。
这就是为什么光刻机的系统专注于使此类结构越来越小的原因。
使用极紫外（EUV）光刻技术，可以通过利用比以前的光刻机（193纳米光）短得多的波长的光（13.5纳米光）来做到这一点。
这种最先进的EUV光刻系统使运行他的客户能够创建更小、更快、更强大的芯片。
EUV光刻机历史1990年代： EUV研究项目在几个重要的地方开始，例如日本，美国和荷兰。
当蔡司证明它可以制造专门的EUV光学器件时，这项研究获得了关注。
在行业会议上，“软X射线光刻”（后称EUV）被评为未来的制造技术。
2001年： ASML为其适度的EUV计划分配了人员和资源。
目的是建立一个可行的原型系统。
2006年：我们交付了第一个Alpha演示工具，这是最早的EUV原型。
这两个系统安装在比利时imec和美国SUNY研究所。
2007年：在Veldhoven开始分阶段建设10,000平方米的洁净室空间。
这是第一个专门用于EUV光刻的洁净室。
2010年：我们向亚洲一家芯片制造商的研究机构交付了第一台NXE：3100，这是第一台EUV研发系统。
2012年：为加快下一代光刻技术的发展，主要客户英特尔，台积电和三星参加了我们的客户共同投资计划。
所有人都同意在五年内为下一代光刻技术的研发做出贡献，并获得该公司的股权。
2013年：我们交付了第一台NXE：3300B，供客户用于工艺开发。
那年下半年，我们完成了对总部位于圣地亚哥的光源制造商Cymer的收购，以进一步加速EUV的开发。
光刻机如何运行光刻系统本质上是投影系统。
光线通过将要打印的图案的蓝图投射（称为“遮罩”）。
光学器件将图案聚焦到硅晶片上，该硅晶片先前已涂有光敏化学品。
当未曝光的部分被蚀刻掉时，图案被露出。
EUV灯的棘手之处在于它被所有东西吸收，甚至被空气吸收。
这就是EUV系统具有大的高真空腔室的原因，在该腔室中，光可以传播得足够远，从而降落在晶片上。
光线由德国合作伙伴卡尔·蔡司（Carl Zeiss）制造的一系列超反射镜引导。
但众所周知，EUV灯也很难产生。
EUV系统使用高能激光，该激光向熔化的锡的微小液滴发射并将其转变成等离子体，从而发射EUV光，然后将其聚焦成束。
为什么需要光刻机193纳米的光刻技术比许多人想像的要快得多，但这付出了一定的代价：该行业不得不深入研究才能继续缩小芯片功能。
可以这样想：如果您要用越来越小的笔迹用记号笔写您的名字，您想在某个时候切换到另一种笔，对吧？
借助EUV光刻技术，目前也为行业提供了更好的选择。
芯片制造商将能够继续制造更小，更快，功能更强大的芯片，同时控制成本。
